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El Sistema Interamericano de Metrología (SIM) fue creado para promover la cooperación internacional e interamericana de metrología. En la reunión semestral de esta entidad realizada en Chile, el experto estadounidense y actual presidente, Willie E. May,


23 de Agosto de 2010.- En un encuentro que se realizó en Chile, los días 16, 17 y 18 de agosto, Gabriela Massiff, directora del Centro de Metrología Química de Fundación Chile, asumió la presidencia del Grupo de Química del Sistema Interamericano de Metrología, en reemplazo del estadounidense Willie E. May, actual director de Metrología Química del NIST (National Institute of Standards and Technology).

El objetivo de la reunión -a la que asistieron Estados Unidos, Canadá, México, Costa Rica, Panamá, Brasil, Argentina, Perú, Ecuador, Trinidad y Tobago, Jamaica, Paraguay, Uruguay y Chile, además de un invitado especial, Alemania­ fue analizar la metrología química de cada país miembro y ver los aportes que pueden hacer cada uno para ayudar a los países que están menos desarrollados.

"Se discutió el grado de desarrollo de la metrología química en cada país y cómo los países con más desarrollo pueden potenciar a los menos desarrollado en esta área, que afecta la economía de cada país", señaló Gabriela Massiff.

El Sistema Interamericano de Metrología ­que nació de un acuerdo entre los países integrantes de la OEA­ tiene como objetivo apoyar una infraestructura de medición integrada en América, que garantice la equidad en el mercado, mejore la calidad de vida y facilite el comercio internacional.

En el encuentro, el experto estadounidense William E. May se refirió a su relación con otras organizaciones regionales de metrología y con instituciones internacionales. Además, algunos de los países miembros del SIM -Chile, Brasil y México­ analizaron las diferentes formas de implementar institutos de metrología química de acuerdo a su experiencia.

Finalmente, el día miércoles 18 de agosto, se realizaron en el Hotel Kennedy dos seminarios: "Validación de Métodos", dictado por el Centro de Metrología Química de Fundación Chile, y "Calibration and Measurement Capability Claims", por parte de Reenie Parris, del NIST.

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